在半导体行业中，使用了各种工艺气体。如果没有采用正确的方式进行处理，这些气体可能会对生产设施、员工及环境造成风险。中鼎联盛解决方案可以按高效、全自动以及传感器控制的方式进行工作，实现好的治理结果。
危险的工艺气体需要现代的废气解决方案
在高科技行业的许多生产规程中——例如：蚀刻、CVD 和外延工艺过程，采用了关键的气体，并且会产生需要得到直接处理的废气。这些废气被视为温室气体，具有毒性和/或高易燃性，并且经常会对生产设施及环境造成显著的风险。例如，半导体行业使用了全氟化碳，它具有极高的全球暖化潜势，因此需要进行高效的废气处理。
将不同的气体结合并输送到工厂的中央废气系统中，可能会产生具有高易燃性与高爆炸性的气态混合物，有时，这在过去会导致整个生产设施的报废。在气体内包含的颗粒物还可能会造成排气装置堵塞。为了消除这些风险，需要在立即减少有害废气的“使用点”（POU）对工艺过程废气进行处理。可以由燃烧/水洗系统、气体洗涤器和静电过滤器成功做到这一点。
晶片制造工艺过程
灵活的使用点废气处理解决方案
由中鼎联盛开发和制造的使用点设备已经掌控了这项任务。中鼎联盛设备可以用于芯片行业中几乎所有的现代涂敷与蚀刻设备。废气将按照与环境相容的方式得到安全处理，而排出的气体将满足法律要求。中鼎联盛技术以灵活的集成产品概念为基础。这种最小型的设备可以装进占地面积小于 1 立方米的机房内。中鼎联盛技术为全自动技术，采用传感器进行控制，并且可以满足高的认证安全标准。
